工业制粗硅的设备,生产石灰设备

硅及其化合物的几种反常现象:1．Si的还原性大于C，但C却能在高温下还原出Si可从平衡移动的角度理解，由于高温下生成了气态物质CO2它的放出降低了生成物的浓度，有利于应反正向进行，故可发生反应SiO2+2CSi+2CO↑2．部分非金属单质能与碱溶液反应，但其中只有Si与碱反应放出H2常见的非金属单质与碱溶液的反应有Cl2+2NaOH==NaCl+NaClO+H2O①3S+6NaOH2Na2S+Na2SO3+3H2O②Si+2NaOH+H2O==Na2SiO3+2H2↑③在反应①②中，Cl2、S既作氧化剂又作还原剂在反应③中，Si为还原剂工业制粗硅的设备,生产石灰设备3．非金属单质一般不与弱氧化性酸反应，而硅不但能与氢氟酸。“魔方格学习社区”各栏目介绍之--考点百科涵盖中小学十二学年九大学科所有的考点百科知识，定义类、定理类、导图类、特性类、点拨类，应有尽有，绝对是你的课前预习好帮手，前往，垂手可得。高纯硅可作半导体材料，制造集成电路、晶体管、硅整流器等半导体器件，还可以制造太阳能电池。硅的合金用途也很广，如含硅4%的钢具有良好的导磁性，可用来制造变压器的铁芯；含硅15%左右的钢具有良好的耐酸性，可用来制造耐酸设备。高纯硅的制备一般首先由硅石（SiO2）制得工业硅（粗硅），再制成高纯的多晶硅，最后拉制成半导体材料硅单晶。届高三化学一轮复习学案《硅及其化合物》预览来源:作者:佚名下载前先预览1。

☉禁止使用迅雷下载本站资源，如果不能下载请联系QQ:☉如果遇到什么问题，可以加网站QQ群()☉本站提供的资源仅供学习研究之用，任何涉及商业盈利目的均不得使用工业制粗硅的设备,生产石灰设备生成的SiCl4以气体状态从炉体上部转至冷凝器，冷却为液态后，再流入储料槽。在生产中，一般将氯化温度控制在450~500℃，这样一方面可提高生产率，另一方面可保证质量，因为温度低时不仅反应速度慢，而且有副产品Si2Cl6、Si3Cl8等生成，影响产品纯度，但若温度过高，硅铁中其它难挥发杂质氯化物也会随SiCl4一起挥发出来，影响SiCl4纯度。①元素符号Si②原子结构示意图③电子式④周期表中位置第三周期ⅣA族⑤含量与存在在地壳中的含量为26．3％，仅次于氧，在自然界中只以化合态存在⑥同素异形体晶体硅和无定形硅。二氧化硅晶体的结构若在硅晶体结构中的每个Si—Si键中“插入”一个氧原子，便可得到以硅氧四面体(SiO4)为骨架的二氧化硅的结构，如图所示。在二氧化硅晶体里，硅原子和氧原子交替排列，不会出现Si—Si键和O—O键，即每个硅原子与四个氧原子形成四个共价键，每个氧原子与两个硅原子形成共价键，因此，二氧化硅晶体中硅原子和氧原子的个数比为12，二氧化硅的化学式为SiO2.。

硅①元素符号Si②原子结构示意图③电子式④周期表中位置第三周期ⅣA族⑤含量与存在在地壳中的含量为26．3％，仅次于氧，在自然界中只以化合态存在⑥同素异形体晶体硅和无定形硅工业制粗硅的设备,生产石灰设备二氧化硅①化学式SiO2②相对分子质量60③类别酸性氧化物④晶体类型原子晶体⑥晶体中粒子间的作用力共价键。html代码<embedsrc=''width='100%'height='600'type=application/x-shockwave-flashALLOWFULLSCREEN='true'ALLOWSCRIPTACCESS='always'></embed>复制默认尺寸450px*300px480px*400px650px*490px支持嵌入HTML代码的网站使用。您的内容已经提交成功您所提交的内容需要审核后才能发布，请您等待！3秒自动关闭窗口。时间:00:57来源:rty大胆图片西西图片_色播网新地址_兰桂坊成人作者:工业制粗硅。

硅、无机材料学案-渭南中学顶0踩0浏览27收藏0评论0加入豆单举报手机观看工业制粗硅的设备,生产石灰设备海川化工论坛»首页›生产及管理大区›生产现场管理版›高纯硅提取原理。三氯氢硅沸点低，易燃易爆，全部操作要在低温下进行，一般操作环境温度不得超过25℃，并且整个过程严禁接触火星，以免发生爆炸性的燃烧。近年来三氯氢硅的提纯方法发展很快，但由于精馏法工艺简单、操作方便，所以，目前工业上主要用精馏法。三氯氢硅精馏是利用三氯氢硅与杂质氯化物的沸点不同而分离提纯的。浙江省届新课标高考化学一轮复习导航课件第3单元第12讲含硅矿物与信息材料。

与“制太阳能电池需要高纯硅，工业上用粗硅制高纯硅可通过以下反应实..”考查相似的试题有工业制粗硅的设备,生产石灰设备硅的用途高纯硅可作半导体材料，制造集成电路、晶体管、硅整流器等半导体器件，还可以制造太阳能电池。硅的合金用途也很广，如含硅4%的钢具有良好的导磁性，可用来制造变压器的铁芯；含硅15%左右的钢具有良好的耐酸性，可用来制造耐酸设备。③硅烷分解温度一般为800~900℃，远低于其它方法，因此由高温挥发或扩散引入的杂质就少。同时，硅烷的分解产物都没有腐蚀性，从而避免了对设备的腐蚀以及硅受腐蚀而被玷污的现象。而四氯化硅或三氯氢硅氢气还原法都会产生强腐蚀性的氯化氢气体。文库君已有近万本图书，还会不断收罗精品免费内容双手奉上，请及时续费哦！。由合成炉中得到的三氯氢硅往往混有硼、磷、砷、铝等杂质，并且它们是有害杂质，对单晶硅质量影响极大，必须设法除去。

文档格式.doc文档页数10页文档热度文档分类建筑/环境--安全文明施工文档标签涓鏃犳満瀛工业制粗硅的设备,生产石灰设备②硅烷纯度高。在硅烷合成过程中，就已有效地去除金属杂质。尤其可贵的是因为氨对硼氢化合物有强烈的络合作用，能除去硅中最难以分离的有害杂质硼。然后还能用对磷烷、砷烷、硫化氢、硼烷等杂质有很高吸附能力的分子筛提纯硅烷，从而获得高纯度的产品，这是硅烷法的又一个突出的优点。硅的物理性质和化学性质（1）物理性质晶体硅是灰黑色，有金属光泽，硬而脆的固体，它的结构类似金刚石，具有较高的沸点和熔点，硬度也很大，它的导电性介于导体和绝缘体之间，是良好的半导体材料。（2）化学性质化学性质不活泼①常温下，除与氟气、氢氟酸及强碱溶液反应外，与其他物质不反应(雕刻玻璃)②在加热条件下，能与氧气、氯气等少数非金属单质化合(4)制备在电炉里用碳还原二氧化硅先制得粗硅，将制得的粗硅，再与Cl2反应后，蒸馏出SiCl4，然后用H2还原SiCl4可得到纯硅。有关的反应为。桂花镁热分解生成硅烷是目前工业上广泛采用的方法。硅化镁（Mg2Si）是将硅粉和镁粉在氢气（也可真空或在Ar气中）中加热500~550℃时混合合成的，其反应式如下。声明1、本主题及回复中所有言论和图片、内容纯属会员个人意见，仅供参考，与本站立场无关2、本内容由该帖子作者发表，帖子作者须承担一切因本内容发表而直接或间接导致的民事或刑事法律责任3、如作者的言论侵犯到任何版权或争议问题第三方负面信息，请立即告知本站并举证，本站将予与删除管理员信箱4、转载本站内容需注明本站完整出处。

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